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HClの蒸留
HClの蒸留
用途
太陽電池や電子機器用の高純度シリコンプロセスや有機化学プロセスおよび各種冶金プロセスには、高純度HClガスが必要です。
製品情報
- HClガス生成量 > 除去ユニットにより6 barG
- Graphilor®3、タンタルCLクラッド®、またはArmylor®といった耐食性材料を用いて製造されるプロセス機器、配管
- 能力範囲： 100% HClベースで1.5～200t/d
お客様が得られるメリット
- お客様の設備に合わせて設備投資や運営コストを調整するためにカスタマイズ可能
- 経験豊富な技術者集団
- 信頼性のある耐食性ソリューション
コンタクト Japan
AM - メルセン・エフエムエー株式会社
本社
〒163-0714
東京都新宿区西新宿2-7-1
新宿第一生命ビルディング14階
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(TEL) 03-5325-6311
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