半導体プロセス機器

これらの専用ソリューションは、材料および精密機械加工に関する当社の専門知識の賜物です。

• ETV-ICPの確認を経た超高純度グラファイトグレード
• SiC(炭化ケイ素）を有する当社のグラファイトグレードの適合性（CTE）は、保護コーティングの長期的完全性を保証します。
• 当社の精密機械加工プロセスでは、三次元検査を実施し、極めて複雑な部品の設計が確実に順守されています。

イオン注入技術は、特にホウ素、リン、およびヒ素といったドープ剤を導入する際、基板の構成および物理的特性を部分的に変更するために半導体業界で用いられています。

これらの機械で用いられている電極およびグラファイト保護スクリーンは、イオン衝撃により著しく腐食します。

• Mersenの微粒子高密度超高純度グラファイトは、高い耐腐食性を有します。
• Mersen社では、これらの部品の強度をさらに高めながら粒子放出を低減するために、ガラス状炭素含浸「VCI」も開発しました。